CM-PATRA / record

A device and method for high shear liquid metal treatment

Publication

KR-20170042699-A on Google Patents

Filed / published / granted

2015-08-19 / 2017-04-19 / n/a

Offices

KR

Applicants

Cassinath Zen (IN, individual)

Minerals

General metallurgy (mineral unspecified)

Stages

Refining

CPC

C22B9/00

Abstract (first 170 chars)

본 발명은 고전단(high shear) 액체 금속 처리 장치(1)를 제공한다. 이 장치(1)는 배럴(2), 회전자 축(5), 복수의 회전자 팬(6, 7, 8), 및 복수의 고정자 플레이트(9, 10, 11)를 포함한다. 배럴(2)은 상측 단부와 하측 단부 사이에 연장되어 있는 길이 방향 축선을 가지며 또